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Halide Ion-Modulated Chiral Synergy in Co-Assembled AIEgen-CNC Composites for Circularly Polarized Luminescence

Juan Shao, Yongxin Chang,*, Hao Wang, Haijuan Qin, Qiongya Li, Ting Yang, Mingliang Tang, Guoxiong Wang, Shuai Chen* and Guangyan Qing*

Small, 2025, XX; DOI: 10.1002/smll.202502383

文章链接: https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.202502383

开发圆偏振发光（CPL）材料时，探索创新的调制策略和高不对称因子（glum）始终是关键所在。传统方法主要依赖两种策略：手性小分子的自下而上自组装，以及无手性发光体与超分子手性模板（如纤维素纳米晶体（CNCs）、液晶）的自上而下共组装。这些模板本身具有预先设计或天然有序的结构，充当“模具”或“支架”，将无手性发光分子嵌入并排列在手性环境中。然而，手性小分子与超分子模板的共组装仍处于探索阶段，受到复杂制备流程和对组装行为控制有限的阻碍。这一问题引发了关于手性的深刻思考，尤其是超分子水平上手性成分的相互作用和兼容性。在此，我们报道了手性聚集诱导发光（AIE）分子-PN-Phe卤化物与CNCs之间的共组装及相互作用。我们的研究结果表明，卤离子（包括 F-、Cl-、Br- 和 PF6-）显著调节了 PN-Phe 的自组装行为，导致其在组装形态、堆积模式、手性信号、荧光量子产率（QY）和寿命方面存在显著差异。值得注意的是，PN-Phe-Cl- 的 glum 值最高，为 -4.1×10-3，而 PN-Phe-F- 的 glum 值最低，为 -4.7×10-4。有趣的是，当这些卤盐与 CNC 共组装形成复合薄膜时，其 glum 值发生了反转：CNC-PVA-PN-Phe-Br-（CPP-Br-）复合薄膜的 glum 值最高，为 -0.43，与 CPP-Cl- 薄膜的低 glum 值 -3.1×10-2 形成鲜明对比。多种颜色变化以及在防伪方面的潜在应用展示了这种共组装策略的优势。这项工作突出了组装模式在构建先进 CPL 材料中的重要作用，表明卤离子可以作为 CPL 的有效调节剂。